반도체 노광 공정 관련 국내 기업

노광 공정은 산화처리된 웨이퍼 위에 반도체 회로를 그려넣는 공정입니다. 먼저 웨이퍼 산화막 위에 감광액(Photo Regist)을 도포합니다. 그리고 회로 패턴이 그려져 있는 마스크(Photo Mask)를 대고 빛을 쏘여 줍니다. 그러면 빛을 받은 감광액 부분의 성질이 변화되는 데 이때 현상액을 뿌려 불필요한 감광액 부분을 제거해서 회로 패턴을 완성합니다.

반도체 노광 공정

보다 집적도가 높은 반도체를 제조하기 위해서는 노광 공정에서 보다 미세한 회로를 그릴 수 있어야 합니다. 그래서 7나노 이하의 반도체 공정에서는 극자외선을 사용하는 EUV 장비를 사용합니다. EUV 노광 장비는 네덜란드의 ASML이 독점적으로 생산하고 있는 고가의 장비입니다. 하지만 삼성전자나 대만의 TSMC가 미세공정을 위해 이 고가의 장비를 경쟁적으로 구매하고 있어서 이러한 기사가 신문에 심심치 않게 보도되는 것을 볼 수가 있습니다.

ASML EUV 노광 장비

 

다음은 반도체 노광 공정 관련 사업을 하고 있는 국내 기업들입니다.

노광 공정 장비 관련 기업

기업명	관련 제품	기업 개요
피에스케이	- PR Dry Strip	- 동사는 피에스케이홀딩스에서 전공정 장비 부분만 독립하여 설립된 반도체 장비 회사로 PR Strip 장비 글로벌 1위 기업임. 시장 점유율은 2019년 기준 약 25% 수준. - 삼성전자, SK하이닉스 등 국내외 글로벌 업체들을 고객사로 확보하고 있으며, 램리서치(미국), Mattson Tech(중국), 히타치(일본) 등과 경쟁함. - 매출구성은 반도체 공정장비류 외 73.87%, 기타 26.13%로 이루어져 있음.
예스티	- TCU - Heat Exchange	- 동사는 2000년 3월 주식회사 영인테크로 설립 - 2006년 1월 상호를 예스티로 변경 - 주요 사업은 반도체 및 디스플레이 장비, 반도체 부품을 제조 - 반도체용 고온용 열처리 장비 개발을 완료 - 2010년 삼성디스플레이 장비 공급을 시작으로 디스플레이 진출 - 주요 매출 비중은 환경안전 34.69%, 반도체장비 31.88%, 디스플레이장비 16.06%
코디엠	- PR Coating - Develop - Baking 장비	- 동사는 1999년 7월 설립되어 반도체 장비, LCD 장비 및 유기발광다이오드 장비의 제조 및 판매 등을 영위함. - 동사의 주력 제품인 반도체, 디스플레이 장비의 경우 주로 삼성전자의 자회사인 세메스와 삼성디스플레이에 판매하고 있으며, 파이프라인 발굴과 바이오 플랫폼 구축을 신규 사업으로 계획. - 매출구성은 반도체 85.56%, 기타(단열재 등) 14.44%로 이루어져 있음.
AP시스템	- Plazma PR Dry Strip System(감광액 박리)	- 동사의 주요사업은 장비 연구개발 및 제조 - 주요 사업은 AMOLED/LCD 등 디스플레이장비, 반도체장비, 레이저응용장비 등 - 동사는 다양한 AMOLED용 공정장비를 개발하여 양산용 공정장비를 공급 - 동사에서 개발하여 공급하고 있는 ELA, LLO, Encapsulation 장비는 삼성디스플레이(SDC)사뿐만 아니라 중국을 포함한 다수의 해외 디스플레이 패널 제조사로 공급영역을 확대하고 있음.
오로스테크놀로지	- Overlay Measurement	- 동사는 2009년 3월 설립되었으며, 반도체 Wafer의 MI(Overlay Metrology, Inspection) 장비 제조를 주력 사업으로 영위. - 동사는 국내외 40여개의 특허를 보유하는 등 다수의 핵심 자체개발 기술을 보유하고 있음. - 2011년 국내 최초로 Overlay 계측 장비 국산화에 성공하였으며, 이후 High Performance AF System 등 다수의 핵심 기술들을 꾸준히 개발.

노광 공정 재료 관련 기업

기업명	관련 제품	기업 개요
동진쎄미켐	- Photoresist(감광액) - Thinner	- 1973년 법인설립되어 반도체 및 TFT-LCD 의 노광공정에 사용되는 Photoresist 관련 전자재료사업과 산업용 기초소재인 발포제사업을 영위함. - 반도체 및 평판디스플레이용 감광액과 박리액, 세척액, 식각액 및 태양전지용 전극Paste 등 전자재료를 제조업체에 납품함. - 동사를 포함하여 3개의 국내 계열회사가 있으며, 주요 매출처는 삼성전자와 하이닉스, 엘지디스플레이와 삼성디스플레이 등임.
에프에스티	- Pelicle(마스크 보호막)	- 2001년 7월 31일자로 상호를 화인반도체기술(주)에서 (주)에프에스티로 변경함. 동사는 2000년 1월 18일에 협회중개시장(코스닥)에 등록됨. - 솔루션사업부의 사업 영역은 미국, 유럽, 아시아의 20여개 다국적 반도체 회사와 전략적 제휴를 통하여, 센서반도체, 전력전자반도체, LED 등을 관련 산업에 기술지원, 영업 및 마케팅을 주요 사업임. - 동사는 온도조절장비인 칠러(Chiller)를 주력으로 생산하는 전문업체임.
네패스	- Photoresist(감광액) - 현상액 - PR Stripper(감광액 박리)	- 동사는 반도체 및 전자관련 부품, 전자재료 및 화학제품 제조, 판매를 영위할 목적으로 1990년 12월 27일에 설립된 이후, 1999년 12월 14일 코스닥시장에 상장됨. - 동사는 반도체 및 전자관련 부품, 재료 및 화학제품 제조, 판매업을 함. - 동사의 사업분야는 시스템 반도체 첨단 공정(WLP, FOWLP/PLP) 서비스가 주력인 반도체사업과 전자재료사업으로 구분됨.
에스앤에스텍	- Blank Mask - EUV용 Pelicle (마스크 보호막)	- 동사는 반도체 및 TFT LCD 생산에 쓰이는, 노광 공정의 핵심 재료인 포토마스크의 원재료로서 패턴이 노광되기 전 마스크인 블랭크 마스크 제조 및 판매를 영위하고 있음. - System LSI, LCD, OLED 등 국내 고부가가치 확대와 중국 패널업체 전방 산업 투자 확대에 대응하여 제품 및 고객 확대를 위해 노력 중. - 블랭크마스크 상품이 매출의 100%를 차지하고 있으며, 중국 패널업체 수요 확대를 위한 신규 공장을 증설함.
이엔에프테크놀로지	- Thinner, Stipper(감광액 박리), Developer(현상액) - 포토레지스트용 Monomer - Polymer, Photo Acid Generator, Anti Reflective Coating Monomer - Polymer, Hardmask용 원료	- 2009년 5월 28일 코스닥시장에 신규상장함. - 동사는 국내 포토레지스트용 핵심원료를 생산하는 기업이며, 삼성전자 등 주요 반도체 제조사의 포토레지스트의 사용량 증가에 따라 핵심원료의 시장규모도 대폭 확대되고 있음. - 동사는 2010년 6월에 중국 진출을 목적으로 홍콩에 ENF China Holdings(지분율 90.00%)를 설립했음. 2018년 6월 미국 진출을 위해 ENF USA HOLDINGS(지분율 100%)을 설립함.
엘티씨	- PR Stripper(감광액 박리)	- 동사는 2007년 11월 23일에 설립되었으며, 2013년 10월 8일 한국거래소 코스닥시장에 주식을 상장함. - 동사는 디스플레이나 반도체 제조 공정에 사용되는 공정소재(Process Chemical) 중 하나인 박리액 개발 및 제조를 주력사업으로 진행하고 있음. - 신규로 추진하고자 하는 사업은 유기 소재 및 나노 세라믹 소재 개발, 판매로 이를 양산하는 연구개발을 진행 중임.
램테크놀러지	- PR Strippe(감광액 박리)	- 동사는 2001년 10월에 설립되어, 반도체용 식각액, 박리액 및 기타 IT 분야 화학소재 등 전방 산업별 핵심 공정 중 사용되는 프로세스 케미컬 제조사업을 주력으로 하고 있음. - 반도체를 시작으로 디스플레이, LCD, OLED, 2차전지, 태양전지 분야 화학 약품 공급으로 사업을 확장해 왔으며, SK하이닉스, 삼성SDI, 매그나칩, ELK 등 고객사에 공급함. - 매출구성은 식각액 40%, HYCL폼이 21%로 이루어져 있음.